Skip to main content
Tisk
Jazyk:
cz
en-gb
de
cz
en-US
es
fr
it
jp
kr
nl
pl
pt
pt-br
zh-CN
zh-TW
Country/Region:
Japonsko
Globálně
Argentina
Austrálie
Belgie
Brazílie
Bulharsko
Česko
Čína
Dánsko
Estonsko
Filipíny
Finsko
Francie
Holandsko
Hongkong
Chile
Chorvatsko
Indie
Indonésie
Irán
Irsko
Itálie
Izrael
Japonsko
Jižní Afrika
Kanada
Kolumbie
Korea
Litva
Litva
Maďarsko
Malajsie
Mexiko
Německo
Nigérie
Norsko
Nový Zéland
Peru
Polsko
Portugalsko
Rakousko
Rumunsko
Řecko
Singapur
Slovensko
Slovinsko
Spojené arabské emiráty
Španělsko
Švédsko
Švýcarsko
Thajsko
Tchaj-wan
Turecko
Ukrajina
USA
Velká Británie
Venezuela
Vietnam
Submit
Kontakt
Electronics industry
Follow
elektrotechnický průmysl
Follow
© Festo SE & Co. KG
ELCC-TB cantilever axis with toothed belt
Cantilever axis ELCC-TB for vertical or horizontal operation.
JPG (753.36 kB)
TIF (7.98 MB)
ZIP (8.71 MB)
© Festo SE & Co. KG
VEAE proportional valve
The proportional valve VEAE from Festo reliably and precisely regulates gas flows, whether oxygen, air, nitrogen or inert gases.
JPG (520.05 kB)
TIF (3.51 MB)
ZIP (4.02 MB)
© Festo SE & Co. KG
N2 purge
When wafers need to be transported and stored in the semiconductor industry, the N2 purge system from Festo prevents oxygen from oxidising the wafers.
JPG (1.62 MB)
JPG (2.61 MB)
ZIP (4.23 MB)
first
previous
…
7
8
9
10
11
12
13
14
15